参观2008 Photonicswest展会
今年1月底在美国圣何塞(San Jose)Convention Center举办，参展企业超过２０００家，成为该行业中规模最大的国际型展会。展会的宣传媒体也从光学技术人员的角度报道各个展位情况，充分体现了技术发展的创新性和无尽魅力。特别是从分光分析专业角度审视本次展览会的各参展产品，从中可以捕捉到今后分光分析技术的发展趋势。分光分析技术的应用领域非常广泛，但从其测定方法来看大都是针对标的物的某一点进行一定时间的精密测定。但本次展会中推出的载有最近几年迅猛发展的MOEMS＆MEMS技术元件的光学产品，将彻底改变以往的分光分析价值观。其中，发生显著变化的将是测定对象从点到线，再发展到面的同时，测定时间也迅速提高并实现高速化方向发展。
我们认为上述这些变化将在不久的未来，最迟到2013年将全面实现。从过去依赖于精密光学和机械技术的分光分析系统将向以MOEMS＆MEMS等电子技术为基础的复合技术转变，就像如今数字化进程的迅猛发展一样，分光分析仪器也将朝着小型化、Robust性、多功能化、便携性方向发展。
而这些领域的技术发展又将有力推荐食品、药品安全方面的非破坏检查。另外，随着二维高速测量技术的不断发展，将进一步加速其在医学和BIO领域中的应用。
我公司于去年开始正式以SOLUTION FOR SYSTEM DEMANDS为主体开展各项业务，我们将始终坚持上述立场，及时掌握最新技术发展动向，并不断挖掘和引进有助于行业发展的先进产品。
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